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IXTRON 的化合物半导体沉积 CCS 系统是一种用于化合物半导体材料沉积的设备。
其主要特点和优势包括：
多功能研发平台：配备集成手套箱，具有高度灵活性，可适应多种金属有机源和氢化物源。
可扩展性强：能够实现从研发到大规模生产的无缝过渡，满足不同规模的生产需求。
生长均匀且可重复：采用经过验证的紧密耦合喷头（Close Coupled Showerhead®）反应器，搭配三区加热器，确保了对所有材料系统的固有均匀和可重复生长，能实现较高的材料质量和均匀性。
工艺窗口灵活性高：有利于获得卓越的材料质量和均匀性。
运行成本低：具有低气体流量和高前驱体效率的特点，且维护简便且成本较低。
原位监测功能：配备 Laytec Epitt、Epicurvett 等原位监测技术（可选），并可选配 Aixtron Argus 全晶圆温度映射和 Aixtron Epison®气体浓度传感器。
紧凑的占地面积：节省空间。
在技术参数方面，CCS 系统有多种配置可供选择，例如：
晶圆尺寸配置包括 3x2 英寸、6x2 英寸、19x2 英寸等多种规格。
具有动态工艺间隙调整功能，最高工作温度可达 1400°C（部分型号）。
该系统广泛应用于化合物半导体的研发和生产领域，例如在光电子器件（如发光二极管 LED、激光二极管等）、功率电子器件、高频电子器件等的制造中发挥重要作用。它可以用于沉积各种化合物半导体材料，如氮化镓（GaN）、砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）等。
售后服务
60天
1年
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CCS系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于CCS系统报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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