1.产品概述:
高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业先的软件控制系统,用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
2.产品工艺:
真空室结构:圆筒形上升盖
真空室尺寸:φ550x450mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉积源:磁控靶3套,φ2英寸;
四工位转靶1套;
样品尺寸,温度:φ2英寸,6片。高可以到达800℃
占地面积(长x宽x高):约3米×1.1米×2米
电控描述:全自动控制
工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%
溅射源:考夫曼离子源 Kaufman 2套,φ2英寸
60天
1年
安装调试现场免费培训
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