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1.产品概述：
高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业先的软件控制系统，用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
2.产品工艺：
真空室结构:圆筒形上升盖
真空室尺寸:φ550x450mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉积源:磁控靶3套，φ2英寸；
四工位转靶1套；
样品尺寸，温度:φ2英寸，6片。高可以到达800℃
占地面积（长x宽x高）:约3米×1.1米×2米
电控描述:全自动控制
工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%
溅射源：考夫曼离子源 Kaufman 2套，φ2英寸
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统-信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于高真空磁控溅射与离子束复合薄膜沉积系统-报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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