blue_guy123
第3楼2009/03/07
我认为文章没有过时,硬件技术不是一日千里那么简单。就看看塞曼技术,从理论提出到商品化时至今天,实际上没有根本性的改变,可以说都是原来基础的小修小补,尽量赶上现今分析越来越高的要求。
我看了文章,作者的思想显而易见,如果我们现在还在对比氘灯好、塞曼好,还是自吸收好?或者我们还是在对比哪种塞曼(横向、纵向?恒磁场、交变磁场?)哪个比较优越?实际上倒不如来个根本性变革!我希望咱们国内的设备设计专家要加油啊!
jack510070
第8楼2014/10/31
就这篇文章,我与何华焜老师进行过深入的探讨,他指出:理想的背景校正技术应该具有“三同”性,即同时、同波长、同分析体积。做到同分析体积的最直接的方法就是一个光源测量两个信号。
连续光源背景校正器不能满足三同中的任何一同。
自吸背景校正器和交流磁场调制塞曼效应背景校正器具有同分析体积、同波长测量,但无法实现同时测量。
真正具有三同的“理想”背景校正器是直流磁场塞曼效应背景校正器和连续光源AAS中采用的多通道背景校正器。尤其是直流磁场塞曼效应背景校正器,在处理高速背景时具有明显的优势。不过直流塞曼背景校正器在遇到某些反常塞曼效应谱线时灵敏度损失太大,而连续光源AAS目前并不太适合石墨炉系统,而且单台仪器的成本太高。
因此,目前最好的背景校正技术还是交流磁场调制塞曼效应背景校正技术。