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【求助】ICP-OES對含Si元素直接測試Si含量

  • tangjiqin1225
    2011/01/21
  • 私聊

ICP光谱

  • 我們在用ICP-OES對含Si元素直接測試Si含量時,通常會遇到如下問題:
    1、標準液保存時間不長
    2、儀器在對同一試劑空白測試時,Si值會越測越高。
    導致上述現象是因為基質中有HF嗎?
    各位,有遇到過上述問題嗎?
    如有。請幫忙哦!
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  • junhuahao

    第1楼2011/01/21

    建议配制标准时要加一定量的盐酸, 空白值硅高的话可能水质不好,用超纯水,标准液储存的瓶子是什么呢?我是用PE瓶储存的

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  • tangjiqin1225

    第2楼2011/01/21

    junhuahao(junhuahao) 发表:建议配制标准时要加一定量的盐酸, 空白值硅高的话可能水质不好,用超纯水,标准液储存的瓶子是什么呢?我是用PE瓶储存的

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  • tangjiqin1225

    第3楼2011/01/21

    現在的問題是比如第一次是3mg/l。第二次可能就是10mg/l,會一直標高。這是對同一個樣品測試。
    還有我想問下,那個加鹽酸的目的是什么呢?
    謝謝

    junhuahao(junhuahao) 发表:建议配制标准时要加一定量的盐酸, 空白值硅高的话可能水质不好,用超纯水,标准液储存的瓶子是什么呢?我是用PE瓶储存的

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  • zoe0122

    第4楼2011/01/21

    如果你的空白中含HF,管路又是玻璃的,那肯定会腐蚀了,随之会导致玻璃中的Si被带出,应该有这种可能性吧?

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  • tangjiqin1225

    第5楼2011/01/21

    我也覺得是這樣的問題。
    可是這樣的話Si應該怎么測試呢?
    又是一個問題了

    zoe0122(zoe0122) 发表:如果你的空白中含HF,管路又是玻璃的,那肯定会腐蚀了,随之会导致玻璃中的Si被带出,应该有这种可能性吧?

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  • 上海泰伦

    第6楼2011/01/21

    测硅的含量不能用氢氟酸溶解啊,Si+HF=SiF4(气体)挥发了。你的进样系统是玻璃的,也会被腐蚀的。

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  • tangjiqin1225

    第7楼2011/01/22

    加H3PO4可避免SiF4的揮發
    可腐蝕這一問題該怎么避免呢

    上海泰伦(sh102012) 发表:测硅的含量不能用氢氟酸溶解啊,Si+HF=SiF4(气体)挥发了。你的进样系统是玻璃的,也会被腐蚀的。

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  • 上海泰伦

    第8楼2011/01/22

    除非配耐氢氟酸的进样系统了.不过这个挺麻烦也不便宜的.

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  • tangjiqin1225

    第9楼2011/01/22

    这个问题就很难解决了

    上海泰伦(sh102012) 发表:除非配耐氢氟酸的进样系统了.不过这个挺麻烦也不便宜的.

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  • 秋月芙蓉

    第10楼2011/01/23

    PE ICP标配就是耐氢氟酸系统

    上海泰伦(sh102012) 发表:除非配耐氢氟酸的进样系统了.不过这个挺麻烦也不便宜的.

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