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ICP—AES教程之三

ICP光谱

  • ICP—AES的干扰之光谱干扰
    先看看由于形成分子光谱而成为光谱干扰的来源:
    (1)ICP光源是在大所压力下的氩气氛中产生的辉光放电现象。氩气有谱线,混入ICP中的氧或氮和它们的分子光谱,使用有机试剂时碳分子或碳化物的分子光谱是光谱干扰的主要来源之一。
    (2)、气溶胶引入ICP时的水份产生的OH分子光谱,使在306.4---320.0nm内的一部分谱线受到干扰,这种干扰去溶也是无法完全消除的。所以说也是光谱干扰的主要来源之一。
    (3)、质量较差的炬管,硅的谱线明显增强,可在短波形成致密的分子光谱。
    再看看光谱干扰的别一类由杂散光引起的背景干扰:
    这类干扰与仪器自已有关,。还与基体成分和Ar-ICP的杂散光的影响有关。这时我们要对曝光高度进行选择。同时大家要明白端视要比侧视好。
    目前光谱干扰只能通过换谱线和计算机程序进行扣除和校正。
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  • 第1楼2003/12/21

    同时大家要明白端视要比侧视好.这句说的太绝对了。
    我认为针对不同的样品,端视和侧视各有优势。主要是你的应用是什么。

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  • 第2楼2003/12/21

    jason 有可能我说的不明白,我指的是在背景干扰这一方面。谢谢你,我以后会注意的。

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  • 第4楼2004/05/22

    端视是矩管水平放置;侧视是矩管垂直放置 。

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