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在线检测仪器

其他仪器综合讨论

  • 请问大家 谁知道哪里有可以实现在线检测硅烷中杂质含量的仪器 谢谢了!
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  • bhgmhys

    第1楼2012/12/06

    有没有老师知道啊?

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  • lianxing-a

    第2楼2012/12/07

    目前没有听说有相关的仪器,不过可以做为方向发展之一。

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  • chengjingbao

    第3楼2012/12/08

    通常多用 在线或离线色谱,至少测量单组分,一般的在线分析仪可以胜任。

    bhgmhys(bhgmhys) 发表:请问大家 谁知道哪里有可以实现在线检测硅烷中杂质含量的仪器 谢谢了!

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  • bhgmhys

    第4楼2012/12/10

    可以说的详细些吗 我对这方面知道的不多 比如用哪种在线的什么仪器 可以检测硅烷中的哪种杂质含量或几种含量?

    chengjingbao(chengjingbao) 发表:通常多用 在线或离线色谱,至少测量单组分,一般的在线分析仪可以胜任。

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  • chengjingbao

    第5楼2012/12/10

    我本人并不是搞电子气检测的,所以说的不一定正确。

    首先,我们要搞清楚,硅烷内杂质组成,需要检测的组分,

    常规的可对下游工艺控制产生影响的主组分,可用单组分的在线分析仪进行检测,如果你有较多的组分都属于主要检测组分,而又需要在线控制,那就要上在线气相色谱,10~30分钟内做一次分析,并输出,如果不需要,就需要离线色谱与在线主成分分析仪组合检测。

    色谱这块就不说了,基本都能检测。

    在线这块,以组分论

    如:CO和CO2,通常选择的是红外和激光。

    氯化物总量:检测方法也是有的,需要调查;

    烃类:







    水,

    通常这些级分,都有一定的在线分析仪可供选择,但投资较大。

    在这类检测中,色谱法投资较小,在及时性上有欠缺,在线法,投资大,实时控制性较好。这一切都需要自己权衡。

    一个外行人的观点。

    bhgmhys(bhgmhys) 发表:可以说的详细些吗 我对这方面知道的不多 比如用哪种在线的什么仪器 可以检测硅烷中的哪种杂质含量或几种含量?

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  • lyw68

    第6楼2012/12/11

    硅烷在大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)和半导体器件制造中,用于气相外延生长、化学气相淀积等工艺(工序)。
    1.    外延(生长)混合气 在半导体工业中,在仔细选择的衬底上选用化学气相淀积的方法,生长一层或多层的材料所用的气体叫做外延气体。常用的硅外延气体有二氯二氢硅、四氯化硅和硅烷等。主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,氧化硅膜淀积,氮化硅膜淀积,太阳能电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积等。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。
    外延(生长)混合气
    序号    组分气体    稀释气体
    1
    2
    3
    4    硅烷(SiH4)
    氯硅烷(SiCl4)
    二氯二氢硅(SiH2Cl2)
    乙硅烷(Si2H6)    氦、氩、氢、氮
    氦、氩、氢、氮
    氦、氩、氢、氮
    氦、氩、氢、氮

    2.    化学气体淀积(CVD)用混合气 CVD是利用挥发性化合物,通过气相化学反应沉积某种单质或化合物的一种方法,即应用气相化学反应的一种成膜的方法。依据成膜种类,使用的化学气相淀积(CVD)气体也不同。
    化学气相淀积混合气
    膜的种类    混合气的组成    生成方法
    半导体膜



    绝缘膜


        硅烷(SiH4)+氢
    二氯二氢硅(SiH2Cl2)+氢
    氯硅烷(SiCl4)+氢
    硅烷(SiH4)+甲烷(CH4)
    硅烷(SiH4)+氧
    硅烷(SiH4)+氧+磷烷(PH3)
    硅烷(SiH4)+氧+磷烷+乙硼烷(B2H6)
    硅烷(SiH4)+氧化亚氮(N2O)+磷烷    CVD
    CVD
    CVD
    离子注入CVD
    CVD
    CVD
    CVD

    适用标准:
    GB/T 15909《电子工业用气体 硅烷》

    系统配置:
    名称    特点及技术指标
    GC-9560气相色谱仪主机    仪器采用大屏幕LCD液晶显示器,中文菜单式操作,并真正实现计算机与色谱主机之间的双向通讯,是国内第一款真正实现计算机反控技术的气相色谱仪
    PDHID检测器    脉冲电压    Valco公司原装进口,一种灵敏度极高的通用型检测器,对几乎所有无机和有机化合物均有很高的响应,特别适合永久气体的分析,是唯一能够检测至ng/g(ppb)级的通用型检测器。
        专用接头   
        金属过滤器   
    HP-2氦气纯化器    最大操作压力:1000Psi
    去除气体:H2、O2、N2、CO、CO2、CH4、H2O、NO、NH3、CF4等
    残留浓度:≤10ppb
    进样及中心切割系统    包括:VALCO吹扫型十通阀 1个
    VALCO吹扫型四通阀 1个
    色谱柱    预切柱1根,,分离柱2根
    数据处理系统    内置双通道数据采集卡    高精度:24位的高精度A/D
    输入电平范围:-5mv至+1v
    采样频率:最高20次/秒
    动态范围:106
    积分灵敏度:1μv•sec
    线性度:<±0.1%
    重现性:0.06%。
        全中文分析软件    可控制色谱仪全部参数
    载气专用减压阀    HORO    特制不锈钢减压阀
    专用取样阀    CXF-Q4A    无死体积,带放空。
    取样与排空系统    HA-108    可满足无泄漏取样与安全排放


    技术指标:
    PDHID对硅烷中气体杂质检测限(ppb)
    H2    O2+Ar    N2    CO    CH4    CO2
    50    50    50    50    20    20

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  • lyw68

    第7楼2012/12/11

    技术要点:
    硅烷中微量杂质的分析一直是色谱分析的难点。
    目前多数采用的热导检测器由于灵敏度有限,很难测定5ppm以下的杂质;火焰离子化检测器和氧化锆检测器是选择性的检测器,只能分析少数几种气体杂质,均不能很好的满足硅烷气体分析的基本要求。
    PDHID检测器(脉冲放电氦离子检测器)是一种灵敏度极高的通用型检测器,对几乎所有无机和有机化合物均有很高的响应,特别适合永久气体的分析,是唯一能够检测至ng/g(ppb)级的检测器。
    但硅烷的分析是一个复杂的过程,仅有高灵敏的检测器是远远不够的,还要考虑样品本身的特性及其背景,如吸附,取样及分析过程中是否有空气混入,系统的密闭性,取样和排空的安全性等等环节

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  • bhgmhys

    第9楼2012/12/13

    谢谢啦

    chengjingbao(chengjingbao) 发表:我本人并不是搞电子气检测的,所以说的不一定正确。

    首先,我们要搞清楚,硅烷内杂质组成,需要检测的组分,

    常规的可对下游工艺控制产生影响的主组分,可用单组分的在线分析仪进行检测,如果你有较多的组分都属于主要检测组分,而又需要在线控制,那就要上在线气相色谱,10~30分钟内做一次分析,并输出,如果不需要,就需要离线色谱与在线主成分分析仪组合检测。

    色谱这块就不说了,基本都能检测。

    在线这块,以组分论

    如:CO和CO2,通常选择的是红外和激光。

    氯化物总量:检测方法也是有的,需要调查;

    烃类:







    水,

    通常这些级分,都有一定的在线分析仪可供选择,但投资较大。

    在这类检测中,色谱法投资较小,在及时性上有欠缺,在线法,投资大,实时控制性较好。这一切都需要自己权衡。

    一个外行人的观点。

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  • bhgmhys

    第10楼2012/12/13

    您好 这种气相色谱仪是安装在实验室里的吧 是不是不能安装在现场 ?

    lyw68(lyw68) 发表:技术要点:
    硅烷中微量杂质的分析一直是色谱分析的难点。
    目前多数采用的热导检测器由于灵敏度有限,很难测定5ppm以下的杂质;火焰离子化检测器和氧化锆检测器是选择性的检测器,只能分析少数几种气体杂质,均不能很好的满足硅烷气体分析的基本要求。
    PDHID检测器(脉冲放电氦离子检测器)是一种灵敏度极高的通用型检测器,对几乎所有无机和有机化合物均有很高的响应,特别适合永久气体的分析,是唯一能够检测至ng/g(ppb)级的检测器。
    但硅烷的分析是一个复杂的过程,仅有高灵敏的检测器是远远不够的,还要考虑样品本身的特性及其背景,如吸附,取样及分析过程中是否有空气混入,系统的密闭性,取样和排空的安全性等等环节

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  • chengjingbao

    第11楼2012/12/13

    可以安裝在現場,我在現場安裝過一台,實際上也是相對獨立的空間和位置。

    bhgmhys(bhgmhys) 发表: 您好 这种气相色谱仪是安装在实验室里的吧 是不是不能安装在现场 ?

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