气质联用(GCMS)
symmacros
第1楼2014/10/10
这是萃取头流出来硅氧烷化合物,几乎无法避免。只能是使用前多老化一下萃取头,会减少Si-O的流失。
蓝是那么的天1188
第2楼2014/10/10
楼主用的什么型号的柱子?如何排除来自柱子的干扰?
千层峰
第3楼2014/10/10
来自进样口,那很可能如朱老师所说,来自萃取头了。
wyj8578
第4楼2014/10/10
我做的时候也是,比较后面会出现较高的si-O峰,萃取头的fiber中有的,木有办法啊
雾非雾
第5楼2014/10/10
一般说在全扫描图中才能看到硅氧烷的碎片峰,如果是用粒子扫描是不会看到硅氧烷峰的。
花开见我
第6楼2014/10/10
直接进样没有,只有SPME的时候才有,那基本可以判定是来自于萃取头。你的萃取头用了多久(多少次),看看是不是该换一个了。另外你老化萃取头,用多高的温度呢。
第7楼2014/10/10
硅氧烷的特征离子就那么几个,还是比较容易避开的。
luos86
第8楼2014/10/10
的确有可能,谢谢朱老师提醒。改天用DVB萃取头试试还有没有硅氧烷
第9楼2014/10/10
我们用的是hp-5ms,因为直接液体进样时没有出现硅氧烷的峰,故排除是柱子流失。
第10楼2014/10/10
我们做成份分析,所以得用scan做。倒是定量检测做得比较少,很少用到sim
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