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【原创】测量样品时Ni高

ICP-MS

  • 我在测量金属镓样品时，测量样品的空白和样品Ｎi都非常高，而测量水却没有问题，，地二次再测量时，刚测完样品又重新测量曲线空白却高达０.８８，１ppb点却高达１.６７，不知为何
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    +关注 私聊

  • kiwi-kids

    第1楼2007/09/16

    重新测定结果有可能受到系统粘污偏高,很正常

    不知道你的样品中测定结果多高,冲洗时间?

0
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  • instrumentid

    第2楼2007/09/16

    镍锥会不会有影响啊？

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  • szjihui

    第3楼2007/09/20

    你用哪个同位素测的,你的样品中Ni的浓度是多少?

0
    +关注 私聊

  • pisces_fei

    第4楼2007/09/24

    Ni背景本身就比较高吧，主要是Ni锥原因吧，换Pt锥试试看。

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