型号: | MPS R400CV |
产地: | 德国 |
品牌: | G&N |
评分: |
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产品简介
德国G&N公司前身为1940年成立的德国Kugelmüller有限公司,并于1964年开发了世界首台半导体晶圆研磨机。MPS R400 CV型晶圆研磨机是德国G&N公司开发的一款8寸晶圆研磨/减薄系统,采用了G&N公司先进的研磨技术,主要用于对半导体晶圆进行减薄与精密研磨,该系统采用一个主轴,可安装粗磨砂轮和精磨砂轮,系统稳定性好,研磨精度高,适合科研客户及小批量生产客户。
技术特色
- 立式进给研磨加工方式,通过金刚石砂轮对晶圆进行高速减薄加工
- 兼容2,3,4,5,6,8寸晶圆减薄与研磨
- 一个主轴可安装粗磨砂轮与精磨砂轮
- 粗磨和精磨自动转换
- 砂轮进给采用高精度伺服电机进行控制,磨削精度高
- 系统采用高精度平衡系统,可补偿在减薄过程中抖动,加工稳定性好,重复加工精度高
- 全封闭研磨区
- 砂轮为金刚石或者CBN
- 多种不同粒度和材料的砂轮用于研磨不同的材料
- 高精度PLC控制器
- 超低限度的TTV
- 可设置多个recipe程序自动运行
- 多种尺寸的真空夹具
- 可配置膜厚测量模块
-对话式人机PC操作界面,触摸屏幕,操作简便,可储存多个recipes
主要参数:
研磨尺寸 | 兼容2” 3” 4” 5” 6” 8” | 样品台平面起伏误差 | ≤2μm |
研磨方式 | Z向切入方式,晶片与主轴同步旋转 | 金刚石/CBN砂轮直径 | 200mm |
主轴数量 | 1个 | 单次可研磨wafer数量 | 32 x 2’’; 16 x 3’’; 8 x 4’’ ; 5 x 5’’; 4 x 6’’ ; 2 x 8’’ |
主轴类型 | 内置高精度电机 空气静压主轴 | 粗、精进给范围 | 170mm |
砂轮类型 | 单一砂轮/双砂轮可选 | 进给精度 | ≤1μm |
砂轮切换方式 | 手动更换/自动可选 | 最小步长 | 0.1μm |
粗磨速度 | 2-1000μm/min | 加工后的表面粗糙度Ra | 取决于砂轮, 使用D7,Ra为0.016μm |
精磨速度 | 2-1000μm/min | 加工后单片厚度偏差TTV | ≤3μm |
主轴功率 | 3.7 KW | 晶片与晶片之间的厚度偏差 | ≤2μm |
主轴转速 | 2560min-1 | 重量 | 1130kg |
样品台直径 | 400mm | 占地面积 | 1640 x 1210 mm |
样品台转速 | 2-20rpm | 控制器 | PLC控制系统 |
产品应用:
可研磨多种半导体材料,如AlN; Al2O3; GaAs; K2O,GaN; Ge; InP; Si; SiC; Si2N4等
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