型号: | LabScatter |
产地: | 荷兰 |
品牌: | TeraNova |
评分: |
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1、产品简介
荷兰TeraNova公司的光栅CD尺寸无损检测仪是一款针对工业客户的大范围、快速、无损光栅关键尺寸检测设备。该设备利用光的散射原理,可以无损、快速检测被测光栅的周期(pitch)、线高(Height)、占空比(DC)、侧壁角(Side-wall Angle)、残余层厚度(RLT)、折射率(Diffractive index)等尺寸参数。特别适合AR/VR光学镜头表面光栅图形的无损检测。可以解决传统采用电镜只能进行切割、局部检测、破坏性检测的缺点。
2、检测原理
光源的入射光线在物镜(Objective lens)的后焦平面(Back-focal plane)聚焦,通过物镜后产生准直平行光(Collimated light)照射样品表面。通过调整入射光线在后焦平面的聚焦位置(Δ)来调整准直平行光照射样品表面的角度。照射样品表面的准直平行光发生衍射,形成不同光强的衍射级(Diffracted orders),收集不同入射角度(Incidence angle)对应产生的不同衍射级信号,与数据库信息进行拟合,就可以对被测样品进行评估并得到被测样品的几何参数信息。
3、主要技术参数:
关键尺寸灵敏度:<2nm;
空间分辨率:50μm;
每个点扫描时间:15s-30s;
照射角度范围:-40°~40°;
仪器尺寸(高度*长度*宽度):1.8m*0.9m*0.5m;
最小晶圆厚度:0.3mm;
晶圆尺寸(直径):最大300mm(12寸;
基底兼容性:透明或不透明;
晶圆装载方式:手动或自动;
4、与扫描电镜(SEM)检测方法对比
待测样品由荷兰SCIL公司的AutoSCIL型纳米压印机加工,使用荷兰SCIL公司的NanoGlass无机光刻胶,光栅周期(Pitch)约为380nm,残余层厚度(RLT)约为47nm,线高(Height)约为102nm。通过将检测值与数据库信息拟合,得到样品几何参数。
测试结果对比:
检测方法 | CD尺寸参数 | |||
周期 (Pitch) | 线高 (Height) | 残余层厚度(RLT) | 占空比(DC) | |
TeraNova 光栅关键尺寸测量仪 | 385nm | 102nm | 47nm | 42.5% |
SEM | 382nm | 97nm | 42nm | 43% |
结论:通过两种不同检测方法测得的样品CD尺寸参数的对比可以看出,采用TeraNova光栅尺寸无损检测仪测得的数据与SEM无明显差异,但由于TeraNova光栅尺寸无损检测仪具有大范围、快速、无损检测的特点,使其更适合应用于工业领域。
5、应用案例-光栅关键尺寸(CD尺寸)空间点阵扫描
样品尺寸:25mm * 25mm
光栅周期(Pitch):380nm
线高(Height):96nm
光栅制备方法:基底保形纳米压印(SCIL)
1) 光学显微镜和电子显微镜下的被测样品
2) 同一测量点,入射光TE方向偏振和TM方向偏振的入射角与对应光强分布的测量值与数据库拟合结果
3) 光栅样品的线高和边缘角的数据及其分布情况
6、应用领域:AR/VR/光栅
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