型号: | Candela 8720 |
产地: | 美国 |
品牌: | KLA |
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Candela 8720先进的集成式表面和光致发光(PL)缺陷检测系统可以捕获各种关键衬底和外延缺陷。采用统计制程控制(SPC)的方法来进行自动晶圆检测,可显著降低由外延缺陷导致的良率损失,最大限度地减少金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应器的工艺偏差,并增加MOCVD反应器的正常运行时间。
Candela 8720晶圆检测系统采用专有的光学技术,可同时测量两个入射角的散射强度。它可以捕捉到形貌变化、表面反射率、相位变化和光致发光,从而对各种关键缺陷进行自动检测与分类。应用包括射频、功率和高亮度LED的氮化镓检测,能够检测裂纹、晶体位错、小丘、微坑、滑移线、凸点和六角凸点以及外延缺陷。8720检测系统还可用于其他高端化合物半导体工艺材料的缺陷检测,例如用于LED、垂直腔面发射激光器和光子学应用的砷化镓和磷化铟。
对直径达200毫米的高端化合物半导体材料进行缺陷检测。
支持各种晶圆厚度
适用于宏观和微观缺陷,如裂纹、多量子阱扰动、微粒、划痕、凹坑、凸起和沾污缺陷
衬底质量控制
衬底供应商对比
入厂晶圆质量控制(IQC)
出厂晶圆质量控制(OQC)
CMP(化学机械抛光工艺)/抛光工艺控制
晶圆清洗工艺控制
外延工艺控制
衬底与外延缺陷关联
外延反应器供应商的对比
工艺机台监控
高亮度LED、微型LED包括AR|VR
氮化镓的射频和氮化镓的功率应用
通信(5G、激光雷达、传感器)
其他高端化合物半导体器件
SECS-GEM
信号灯塔
金刚石划线
金刚石划线
校准标准
离线软件
光学字符识别(OCR)
光致发光
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