型号: | F54-XY系列 |
产地: | 美国 |
品牌: | KLA |
评分: |
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F54-XY拥有先进的反射光谱仪系统,可轻松实现对最大300mm晶圆样品的膜厚测量。
F54-XY-200型膜厚仪可测量最大尺寸200mm的样品,电动XY载台可实现预选点位的自动测量,测量速度最高可达每秒2个视场点。
F54-XYT-300型膜厚仪具备高性能旋转样品台,可实现对300mm晶圆样品的测量。
系统内置极坐标、矩形阵列、直线等多种点位图形,用户也可自定义创建测量点阵,且无最多测量点数的限制。
模式识别功能可满足阵列式或非阵列式晶圆的测量需求。
F54-XY系列不同机型的主要区别在于待测薄膜的厚度和光源波段。一般情况下,待测膜厚越小,则需使用更短波长的光源进行测量(如 F54-XY-200-UV),反之长波光源则可以满足更厚、粗糙或透明度更低的薄膜厚度测量需求。
集成光谱仪/光源装置
FILMapper 测量软件
SiO2厚度标准
集成式硅反射标准
真空泵
模式识别软件
自动转塔
高通滤波器转轮
可追溯的 NIST 厚度标准
每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种
应用工程师可立刻提供帮助(周一 - 周五)
网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)
型号 | 厚度范围* | 波长范围 |
---|---|---|
F54-XY | 20nm-50µm | 380-1050nm |
F54-XY-UV | 4nm-35µm | 190-1100nm |
F54-XY-NIR | 100nm-120µm | 950-1700nm |
F54-XY-EXR | 20nm-120µm | 380-1700nm |
F54-XY-UVX | 4nm-120µm | 190-1700nm |
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