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1.产品概述：
高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统可以在粉末颗粒状样品表面镀制金属膜、磁性膜、绝缘膜等，采用行业的软件控制系统。
2.设备用途：
可广泛应用于大院校、科研院所的粉末样品表面镀制薄膜材料的科研项目。
3.真空室结构:
圆筒形侧开门，通常采用不锈钢材质制造，具备良好的密封性能
真空室尺寸:Ф450x550mm
限真空度:≤8.0E-5Pa
沉积源:永磁靶2套，φ3英寸
样品尺寸，温度:小型粉末颗粒状样品
占地面积（长x宽x高）:约1米x1.8米x2米
电控描述:全自动设备电控系统和控制系统：采用计算机控制，具有液晶显示屏、鼠标键盘操作界面，支持自动控制和手动控制两种方式，操作简便，并可实现真空系统及工艺过程的全自动化操作。
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于高真空磁控溅射粉末颗粒表面薄膜沉积系统报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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