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1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.设备用途：
用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
3.真空室结构:
圆筒形上升盖尺寸例如φ450×350mm，采用不锈钢材料制造，可进行内烘烤，接口处采用金属垫圈或氟橡胶圈密封。
真空室尺寸:φ450×350mm
限真空度:≤6.0E-5Pa包括分子泵和机械泵，通过超高真空闸板阀主抽，并设有旁路抽气
沉积源:永磁靶3套，φ2英寸
样品尺寸，温度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃
占地面积（长x宽x高）:约2米×1.5米×2米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
高真空磁控溅射薄膜沉积系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于高真空磁控溅射薄膜沉积系统报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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