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高真空磁控溅射薄膜沉积系统

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品牌

沈阳科仪

型号

JGP560

产地

中国大陆辽宁

应用领域

暂无

1.产品概述:

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。

2.产品优势

用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目

该系统可用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料科研工作。

3.产品工艺

真空室结构:梨形上升盖

真空室尺寸:φ550×350mm

限真空度:≤6.6E-6Pa(经烘烤除气后)

沉积源:永磁靶5套,φ2英寸配有多个靶位,例如 5 个 2 英寸磁控溅射靶接

样品尺寸,温度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃

占地面积(长x宽x高):约3米×1.1米×2米

电控描述:全自动

工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%




售后服务

60天

1年

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