ahwyq
第1楼2010/02/01
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标准编号
GB/T 14849.4-2008
标准名称 工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定素含量
英文名称
Methods for chemical analysis of silicon metal - Part 4:Determination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
代 替 号
采用标准
归口单位
全国有色金属标准化技术委员会
起草单位
中国铝业股份有限公司郑州研究院、中国有色金属工业标准计量质量研究所等
分 类 号
国际分类号
发布日期 2008-06-09
实施日期 2008-12-01
内容介绍
lilongfei14
第6楼2010/02/02
GB-T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法 第4部分电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量.pdf
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