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首次使用时进样系统的清洗

简单的HM

2013/06/26

各位大侠，请问仪器安装调试过程中发现氧化物含量偏高，可以使用稀氢氟酸（2%）对进样系统进行较长时间清洗吗？

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阶前尘

第1楼2013/06/26

应助达人

你的进样系统是什么材料的，氢氟酸不能用于石英材质。

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光哥

第2楼2013/06/26

应助工程师

排除了其他所有的因素，确定是进样系统造成的氧化物指数上升的么？
早前用ICPOES的时候，装机遇到过雾化室挂珠，用尽各种方法都无法清洗干净，才不得不用稀（HF+HNO3）混合喷洗。不过这个步骤是仪器厂商的工程师来完成的。
如1L所言，石英的用HF有一定的危害性，如确实是进样系统的污染需要用到HF，建议在厂商工程师指导下完成

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nphfm2009

第3楼2013/06/26

应助达人

不能通过调节其它参数将其降下来吗

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yangchengh

第4楼2013/06/27

氧化物比率增加也有可能是雾化系统引起，导致水蒸气进入矩管，先找到原因吧

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阶前尘

第5楼2013/06/27

应助达人

水蒸气的原因的话，是不是雾化室温度不够低啊
yangchengh(v2658860) 发表:氧化物比率增加也有可能是雾化系统引起，导致水蒸气进入矩管，先找到原因吧

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yangchengh

第6楼2013/06/28

有可能，我们之前碰上过，雾化室温度太高，导致水蒸气不能冷凝成大液滴排出，进入矩管，氧化物比率增加，但是雾化室太脏造成雾化室积水也有可能水蒸气进入矩管吧，个人观点，呵呵
阶前尘(jieqian1211) 发表:水蒸气的原因的话，是不是雾化室温度不够低啊

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envirend

第7楼2013/06/29

应助达人

一般仪器厂家都是雾化室是半导体制冷，一般设置温度为2摄氏度--这个我们在仪器点火后能看到：温度逐渐下降到2摄氏度的现象。
yangchengh(v2658860) 发表:有可能，我们之前碰上过，雾化室温度太高，导致水蒸气不能冷凝成大液滴排出，进入矩管，氧化物比率增加，但是雾化室太脏造成雾化室积水也有可能水蒸气进入矩管吧，个人观点，呵呵

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阶前尘

第8楼2013/06/29

应助达人

话说如果真是水蒸气的原因的话，试一试HMI！用气体稀释

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职业游民

第9楼2013/06/29

氢氟酸这个东西谨慎使用

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狼牛牛

第10楼2013/06/29

光哥我的雾化室也挂水珠了怎么办？
光哥(xsh1234567) 发表:排除了其他所有的因素，确定是进样系统造成的氧化物指数上升的么？
早前用ICPOES的时候，装机遇到过雾化室挂珠，用尽各种方法都无法清洗干净，才不得不用稀（HF+HNO3）混合喷洗。不过这个步骤是仪器厂商的工程师来完成的。
如1L所言，石英的用HF有一定的危害性，如确实是进样系统的污染需要用到HF，建议在厂商工程师指导下完成

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