ICP-反应离子刻蚀机

报价 ¥150万 - 200万

品牌

暂无

型号

KVET

产地

亚洲韩国

应用领域

暂无

蚀刻材料金属和电介质材料蚀刻

基板最大尺寸  8英寸

产品产量  1片/次

源(气): 注入式喷淋头式

卡盘单元卡盘通过冷却器冷却

基板背面He冷却

带夹具的机械晶片夹紧

电源偏置:RF功率Max.2kW@13.56MHz

ICP源:射频功率Max.3kW@13.56MHz

极限压力<5.0E-6Torr(TMP和干式泵)

压力控制摆阀,baratron压力计

负载锁定室极限压力:<5.0E-3Torr(干式泵或旋转泵)

气体输送SF6、CHF3、CF4、C4F8、BCl3、Cl2O2、Ar、He、,…

控制PC控制(UPRO软件)

可选静电卡盘,盒式装载锁

系统尺寸(宽*深*高)2050mm X 800mm X 1600mm



售后服务

1年

1次免费培训

3月1次

免费维修免费更换部件

2小时响应

查看全部
发布心得活动

暂无评论,点击发布评论

ICP-反应离子刻蚀机信息由科睿设备有限公司为您提供,如您想了解更多关于ICP-反应离子刻蚀机报价、型号、参数等信息,科睿设备有限公司客服电话:400-860-5168转3281,欢迎来电或留言咨询。

相关产品