薄膜制备

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薄膜制备相关的资讯

  • 高通量组合薄膜制备及原位表征系统
    table border=" 1" cellspacing=" 0" cellpadding=" 0" width=" 600" tbody tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 成果名称 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " 高通量组合薄膜制备及原位表征系统 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 单位名称 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " 中科院物理研究所 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 联系人 /p /td td width=" 175" p style=" line-height: 1.75em " 郇庆 /p /td td width=" 159" p style=" line-height: 1.75em " 联系邮箱 /p /td td width=" 192" p style=" line-height: 1.75em " qhuan_uci@yahoo.com /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 成果成熟度 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " √正在研发 □已有样机 □通过小试 □通过中试 □可以量产 /p /td /tr tr td width=" 122" p style=" line-height: 1.75em " 合作方式 /p /td td width=" 526" colspan=" 3" p style=" line-height: 1.75em " √技术转让 & nbsp & nbsp √技术入股 & nbsp □合作开发& nbsp √其他 /p /td /tr tr td width=" 648" colspan=" 4" p style=" line-height: 1.75em " strong 成果简介: /strong br/ & nbsp & nbsp /p p style=" text-align:center" img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201603/insimg/981cbfad-b9ec-4aa9-875a-12197e3c1fb1.jpg" title=" LIBE-STM.jpg" width=" 350" height=" 321" border=" 0" hspace=" 0" vspace=" 0" style=" width: 350px height: 321px " / /p p style=" line-height: 1.75em " & nbsp br/ /p p style=" line-height: 1.75em " & nbsp & nbsp 随着“材料基因组计划”的兴起,人们对新的实验手段,特别是高通量高空间分辨率的材料制备和性能测试方法提出了迫切的要求。正是针对于此,我们开发了这套“高通量组合薄膜制备及原位表征系统”,基于完全自主知识产权的新型生长机理制备高通量组合薄膜。同时,通过结合特殊设计的扫描隧道显微镜,可实现对所制备薄膜的原位超高分辨表征。尚在研发中,主要技术指标待测。 /p /td /tr tr td width=" 648" colspan=" 4" p style=" line-height: 1.75em " strong 应用前景: /strong br/ & nbsp & nbsp & nbsp 应用前景尚不明确。 /p /td /tr tr td width=" 648" colspan=" 4" p style=" line-height: 1.75em " strong 知识产权及项目获奖情况: /strong br/ & nbsp & nbsp & nbsp 发明专利:201510446068.7、201510524841.7 /p /td /tr /tbody /table p br/ /p
  • 行业解决方案 | 布劳恩赋能钙钛矿薄膜制备
    钙钛矿(Perovskite)是具有特定晶体结构的材料,晶体结构中可以嵌入许多不同的阳离子,从而可以开发多种工程材料。在过去几年中,这种材料已被广泛用于钙钛矿太阳能电池(PSC)的研发。钙钛矿太阳能电池是一类以金属卤化物钙钛矿材料作为吸光层的太阳能电池。作为第三代新型太阳能电池,在过去的几年里发展极为迅速。单节钙钛矿太阳能电池的转换效率已经从 2009年的3.8%上升到2023年的26.1%。钙钛矿/晶硅叠层太阳能电池转换效率已达到33.7%,超过了单节晶硅太阳能电池所达到的最高转换效率。相比于晶硅电池,钙钛矿电池具有原料成本低、生产工艺简单,极限转换效率高、高柔性等优势,可以应用于光伏发电、LED等领域,发展前景广阔。作为光伏行业的重要参与者,MBRAUN在钙钛矿薄膜制备应用方面具备丰富的研发和产业经验。可结合客户需求,为客户提供从研发、中试到量产级别的设备,系统和半自动/自动化整体解决方案。以下是MBRAUN部分相关产品概览:01物理气相沉积钙钛矿材料具有蒸发温度低,腐蚀性强,难以共蒸等特点,从而影响工艺的可重复性和稳定性。MBRAUN专门设计了拥有专利技术的真空镀膜系统用于蒸镀低沸点钙钛矿材料。该系统的核心理念是对整个系统进行温度控制,以防止出现沉积后的二次蒸发现象。所有部件均均采用耐腐蚀材料和易于清洁维护的特殊设计,特别适用于具有腐蚀性和毒性的钙钛矿材料。目前该系统已被多个知名学府和研究机构应用,2022年12月,德国HZB使用PEROvap蒸镀系统制备的钙钛矿/晶硅叠层太阳能电池的转换效率达到32.5%。02旋涂在实验室级别的钙钛矿研究中,旋涂法是最被广泛应用的一种方法。尽管这种方法材料利用率很低,且随着基底面积增大,中心和其辐射边缘成膜不再均匀,但是对于优化薄膜厚度,研究钙钛矿结晶及其分解机理有极大的方便之处。MBRAUN提供的旋涂设备具有可编程功能,能够编辑储存包括速度、加速度和旋涂时间在内的多个参数,方便用户灵活地开展前沿研究,尤其是研究对空气敏感的材料。同时可提供各种可选配件,如半自动注液系统、脚踏开关和内衬(便于清洁)等。全系列标准的和定制的真空吸盘,带有快速更换装置,使旋涂功能变得更加全面完善。03狭缝涂布狭缝涂布机的设备造价显著低于真空镀膜设备,却可以达到很高的材料利用率(高达95%)。狭缝涂布技术广泛应用于许多前沿高科技领域,可以将液体材料涂布到刚性或柔性基板上以制备功能膜层。特别是在大尺寸大容量薄膜太阳能电池的生产制造上,狭缝涂布技术不断获得业界关注并被普遍认为具备产业化潜力。在狭缝涂布技术应用中应特别注意环境中粉尘对涂布工艺的影响。在不合格的无尘环境下进行狭缝涂布工艺,纳米级薄膜(干膜厚度)将被完全破坏。为了避免这个问题,MBRAUN开发了小型洁净系统,可以在惰性气体环境下运行,并在该环境内同时实现ISO1的洁净等级。04热板湿法制膜设备需要经过良好的固化后才能形成均匀的薄膜,以制备高效率的器件。热板是MBRAUN工艺设备系列中的最新设计之一,用于在可控条件下固化在刚性基片上沉积的有机薄膜。具有非常好的温度均匀性、温控精度、工艺稳定性、可重复性,以及高度的灵活性,应用范围覆盖基础研究到复杂的制造工艺。05自动化当用户开始关注如何消除人为失误、增加产能以及提高工艺重复性和稳定性时,就一定会需要自动化解决方案。MBRAUN作为钙钛矿电池领域的整体方案头部厂商,在超净生产环境管控(无水、无氧、无尘),自动化物流,工艺生产和检测设备集成整合,生产安全管理,生产信息记录等领域具备丰富的技术和经验储备。多年来,MBRAUN设计并交付了一系列从半自动化到全自动化范围的高度集成的系统,为客户量身定制解决方案,充分满足客户的每个特定需求,在行业内获得高度好评。如果您有相关需求,欢迎致电布劳恩!
  • 纳米薄膜材料制备技术新进展!——牛津大学也在用的薄膜沉积系统,有什么独特之处?
    一、纳米颗粒膜制备日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜,很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入,不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向,需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下,纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸,颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下,Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布(厂家测试数据)不同颗粒密度样品(厂家测试数据)纳米颗粒制备技术特点:▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调;▪ 多可达3重金属,可共沉积,可制备纯/合金颗粒;▪ 材料范围广泛,包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性(类似于反应溅射)▪ 的纳米颗粒层厚度控制,从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向:▪ 生命科学和纳米医学: 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向:电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究:光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化:燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器:生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而,人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物,想要消除铅对环境的影响,而迄今为止,这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的,如果将它们结合起来,就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期,牛津大学的光电与光伏器件研究组的HenrySnaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙,可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合,使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比,无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题,由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长,因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统,通过真空蒸发三种不同的前驱体,研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性,使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后,XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后,表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点:▪ 蒸发设备:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射:直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性:可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备:二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制:触屏编程式全自动控制

薄膜制备相关的方案

  • 天津兰力科:ZRNx快离子导体薄膜的制备及其Cr掺杂性能的研究
    全固态电致变色器件的实用化研究一直是该领域的研究热点。电致变色器件全固态化的关键是采用合适的快离子导体(有时亦称固体电解质)作为器件的离子传导层。目前,用于电致变色器件的快离子导体仍以固态聚合物电解质为主,然而,聚合物电解质存在易老化、机械强度差、工业化生产难度较大等缺点。无机快离子导体是最有希望用于全固态电致变色器件的离子导体材料。本实验室前期研究结果表明,在合适的工艺参数下制备的 ZrNx薄膜具有高的透过率、良好的热稳定性、耐磨性和化学稳定性,适合于作为电致变色器件的离子导体层。 到目前为止,制备离子导体薄膜最常用的方法有溶胶-凝胶法、真空蒸发法、化学气相沉积法和溅射沉积法等,其中磁控溅射以沉积速率高、基片温升低、膜层均匀性及附着力好、工艺参数易控制等优点而日益成为制备离子导体薄膜的理想工艺方法。 因此本文以纯锆靶及纯铬靶为靶材,采用反应磁控溅射工艺在 WO3/ITO/Glass基片上沉积 ZrNx薄膜和 ZrNx:Cr 薄膜,通过紫外-可见分光光度计、循环伏安法、交流阻抗法、X 射线衍射仪、热场发射扫描电镜以及扫描隧道显微镜等测试分析方法,研究了制备工艺参数以及 Cr 掺杂对 ZrNx薄膜离子导电性能和结构的影响 。研究结果表明:采用射频反应磁控溅射工艺制备的 ZrNx薄膜和 ZrNx:Cr 薄膜均为非晶态结构,溅射功率和氮气分量等工艺参数对薄膜的离子导电性能有较大影响,选择合适的氮分量和溅射功率有助于提高 ZrNx薄膜的离子导电性能,在本实验的条件下,原位沉积 ZrNx薄膜的可见光透过率大于 75%,ZrNx/WO3/ITO/Glass器件的光学调节范围最大可达 57%以上,在离子传导过程中表现出良好的离子导电性能。 掺杂后的 ZrNx:Cr 薄膜,晶态趋势大于未掺杂的 ZrNx薄膜,结构的变化导致ZrNx:Cr 薄 膜 的 离 子 传 导 性 能 有 所 下 降 , 电 化 学 窗 口 变 小 , 从 而 使ZrNx/WO3/ITO/Glass 器件的光学调节范围缩小。
  • 天津兰力科:V2O5离子存储薄膜的制备及其Ni掺杂改性研究
    离子存储层(对电极层)是全固态电致变色器件的关键膜层,其作用是存储和提供电致变色所需的离子,维持电荷平衡,因此要求它具有较大的离子存储能力,较好的离子存储稳定性及循环寿命,并且同电致变色材料同步致色时光学性能变化较小,其性能的好坏直接影响到整个器件的循环耐用性和光学对比度。在以a-WO3薄膜为电致变色层的灵巧窗中,弱阴极致色的V2O5薄膜是最具有实用价值的候选锂离子存储材料之一,它具有半导体特性和层状结构,有利于离子传输,在聚合物电解质中化学性能稳定,具有较大的电荷储存密度,光学性质不明显依赖于注入的离子和电子浓度。但是目前要使其真正进入实际应用还需进一步提高薄膜的离子存储能力,优化制备工艺参数和对薄膜进行合理掺杂是两种有效提高薄膜性能的方法。实验采用射频磁控反应溅射技术在ITO玻璃基片上沉积固态V2O5和V2O5:Ni薄膜,文中介绍了薄膜的离子存储及溅射掺杂机理,并通过X射线衍射、X射线光电子能谱、紫外-可见光分度计和标准三电极法分别研究薄膜的结构、组成、光学及电化学性能,主要讨论氧分量、溅射功率、溅射温度等工艺参数以及Ni掺杂参数对薄膜的结构和性能的影响。研究表明:室温下用射频磁控反应溅射技术制备的V2O5和V2O5:Ni薄膜为非晶态,少量Ni掺杂不会改变薄膜的非晶态结构,在Li离子注入/退出过程中表现出良好的离子存储特性;较低的氧分量和溅射温度有助于提高薄膜的半导体特性及离子存储特性,在一定范围内提高溅射功率,可有效提高薄膜的离子存储能力及伏安循环特性;而V2O5薄膜掺杂Ni之后,非晶态的趋势稍强于纯V2O5薄膜,结构的微弱变化导致了V2O5:Ni薄膜具有更好的离子存储特性;掺杂工艺对薄膜的电化学性能影响较为复杂,主要与相对掺杂量和掺杂方式有关,当相对掺杂量处于有效掺杂范围和最佳值附近时,掺杂越均匀,薄膜的综合性能越好,同时掺杂次数也存在一个最佳值。
  • 铜表面复合超疏水薄膜的制备及表征
    该文利用自组装技术, 在HNO3 (质量分数6􀀁 5% ) 刻蚀的铜表面制备了( 3􀀂 巯基丙基) 三甲氧基硅烷(MPTS)与正辛基三乙氧基硅烷( OS) 的复合纳米薄膜, 并通过红外光谱对膜结构进行了分析。通过扫描电子显微镜确定了该复合膜具有纳米- 微米级粗糙结构 静态接触角达158􀀁 6􀀂 , 滚动角为3􀀂 , 表明该膜具有超疏水性能 盐水实验证明该复合膜有效地提高了铜的耐腐蚀能力。

薄膜制备相关的论坛

  • 旋涂法制备薄膜

    旋涂法制备薄膜,有时候薄膜表面不均匀,有同心圆,这种叫什么现象,我记不得专业名词了,有哪位老师知道么

  • 【求助】哪里能够购买到或者制备非晶薄膜

    最近想找一些Si,SiO2之类的非晶薄膜,不知道各位是否曾经买过或者制备过类似的样品,能否提供一些相关信息。文献上提到可以用蒸镀等办法在碳膜上沉积上一层薄膜,但是不知道大家有没有相关的经验,是否可以共享。非常谢谢!

薄膜制备相关的资料

薄膜制备相关的仪器

  • PrepChromaster-8000型高压制备色谱系统-----专为高通量纯化打造 为了满足中药与天然产物分离纯化领域的需求,推出了PrepChromaster品牌,为该领域提供制备色谱解决方案级产品,是中药与天然产物分离纯化实验室的理想选择。PrepChromaster-8000型是一款连接快速色谱和传统高压制备高效液相色谱的二元制备色谱设备,主要应用于药物活性成分、天然产物研究,合成化学分离纯化,在节省制备成本的同时极大地提高了分离效率。仪器特点1、本系统最大制备量可达克级,可适配10-100mm直径的各类色谱柱;2、本系统检测器使用全波长紫外-可见检测器,可同时选用4个不同检测波长3、本系统可使用Flash柱,支持各种级别的Flash低压分离纯化;4、本系统可以使用高压不锈钢柱,支持300bar以内高压级别的分离;5、本系统支持液体或固体样品上样,可以避免贮备过多的定量环;6、具有压力显示、报警、过压保护功能,实时监控泵的压力波动;7、本系统具有全波长光谱扫描功能,可检测190nm-850nm范围任意四个波长信号;8、带有光源自检功能,管理光源寿命,提醒及时更换;9、带有单色仪自校正功能,波长准确性高;10、进样方式独特设计,防止样品与溶剂扩散;11、本系统采用先进的进样技术,两种进样模式可选,进样时间短,避免样品残留和堵塞;12、高速准确的阀切换,避免样品的损失,提高回收率。13、本系统可以使用小粒度填料的不锈钢柱和商品化的Flash柱;14、独立的进样和馏分收集流路,避免交叉污染;15、智能馏分收集器可按体积、阈值、时间和色谱峰收集馏分;16、本系统提供多种标准试管架和试管,用户可自定义试管架,标配孔径18mm试管架;17、软件具有自动进样、梯度、色谱图、馏分收集图、设备状态同图显示的功能;18、软件具有自动进样状态显示与控制功能,可显示阀、注射泵、进样臂的状态;19、软件支持梯度,程序设定功能,具有阶梯、线性、点-拖式梯度曲线;20、软件支持智能馏分收集,具有时间、阈值、峰值、手动等多种收集方式;21、软件支持馏分索引功能,实时显示馏分收集位置与对应的色谱峰位置;22、软件支持色谱分峰与定量功能、审计追踪、数据管理、用户管理、个人管理等功能;23、仪器操作有软件控制,分离纯化参数都可以在线更改;24、软件中文界面,模块化设计,便于学习和操作,符合中国用户使用习惯。 仪器组成1、高压二元梯度泵系统;2、混合器;3、四波长UV-VIS检测器;4、自动进样器馏分收集一体机;5、溶剂槽;6、模块化液相工作站;7、电脑 ; 技术指标泵1、流量范围:0~200mL/min单泵,0~400mL/min双泵;2、压力范围:标准300bar;紫外检测器1、检测器范围:190~850nm;2、检测器光源:氘灯-钨灯组合光源;3、波长精度:±1nm;重复性0.2nm;4、检测方式:UV-VIS检测器,4波长实时显示;自动进样模块1、定量环:10mL;2、进样位数:108位;3、试管规格:13*100mm;馏分收集模块1、馏分收集容器:400位(标配);2、试管规格:18*180mm,(其它规格可定制); 可选配件1、 蒸发光散射检测器;2、二极管阵列检测器; 由于技术不断进步,本公司保留设计更改之权利,更改恕不通知,敬请谅解。
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  • 台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorfield公司近十年来与曼彻斯特大学诺奖技术团队紧密合作,推出的台式高精度薄膜制备与加工系列产品由于其体积小巧、性能、易于操作更是受到很多科研单位的赞誉。Moorfield Nanotechnology推出的台式设备体积小巧,但性能已经可以和大型设备相媲美。这些设备已经进入了欧洲的实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的代理和战略合作伙伴,将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了台式设备之外我们还提供多种大型设备和定制服务。全系列产品即将上线,敬请期待… … 台式高性能CVD石墨烯/碳纳米管快速制备系列—nanoCVD超快速高质量石墨烯生长设备,整个过程30分钟内搞定!CVD被公认为是石墨烯具有应用前景的制备手段。NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。与曼彻斯特大学诺奖团队的长期合作使得该系列产品在制备石墨烯等碳基纳米材料方面具有雄厚的技术积累。该系列产品操作简便,生长条件控制,生长迅速、制备出的样品具有高质量、高可重复性,可清楚的观测到分数量子霍尔效应。尤其适合于需要快速得到高质量石墨烯或碳纳米管用于高端学术研究的团队。点击查阅详细信息台式高性能多功能PVD薄膜制备系列—nanoPVD可媲美大型PVD的台式高性能PVD系统 ,爆款热销中!基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验,Moorfield Nanotechnology推出了台式高性能多功能PVD薄膜制备系列产品。该系列产品是为高水平学术研究研发的小型物理气相沉积设备。该系列产品包含磁控溅射、金属/机物热蒸发系统。这些设备虽然体积小巧但是性能,能够快速实现高质量纳米薄膜、异质结的制备,通常在大型设备中才有的共溅射功能也可以在该系列产品上实现。便捷的操作、智能的控制、高效的制备效率让您的学术研究进入快车道。点击查阅详细信息台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统,诺奖团队都在用!石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度,而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题,Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量,对二维材料可实现超的逐层刻蚀,也可实现对二维材料进行层内缺陷制造,此外还可对石墨基材等进行表面处理。点击查阅详细信息台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL从高真空到各种气氛都能控制的高端热处理系统Moorfield Nanotechnology专门为制备高质量的样品而推出的台式气氛\压力控制高温退火系统,该系统可以满足从高真空到各种气氛的退火需求。对气压和温度都能进行控制,该系统不仅仅是普通的退火系统更是二维材料、基片等进行可控热处理的重要保障。该系统颠覆了传统箱式、管式炉的粗放退火方式,开创了退火的新篇章。点击查阅详细信息多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是一台喷金仪,但不仅仅是喷金仪!多功能高磁控溅射喷金仪—nanoEM是Moorfield Nanotechnology为SEM、TEM样品的表面导电处理以及普通样品的高质量电生长而设计的金属溅射系统。系统配备SEM样品托、TEM样品网、普通薄膜样品等多种专用样品台。虽然该系统主要为溅射金属而设计,但是该设备的性能已经达到了高质量薄膜样品的制备标准。通过选择不同的配置可以兼顾样品的表面导电处理、电制备与学术研究型薄膜样品的制备。因此nanoEM是一台不可多得的多功能高磁控溅射喷金仪。点击查阅详细信息部分单位及用户评价意大利比萨大学(nanoPVD S10A)Moorfield近在意大利比萨大学安装了另一台nanoPVD-S10A磁控溅射系统。在这里,它将被Giuseppe Barillaro副教授领导的团队用于为新型器件生长保护性和功能性涂层。该小组的研究应用包括纳米医学、生物传感、微电子学和光子学。诺森比亚大学(nanoPVD S10A,MiniLab)DR. GUILLAUME ZOPPI对Moorfield的评价:在诺森比亚大学,我们正在研究各种材料的应用,特别是光伏材料。作为不可或缺的部分,Moorfield近安装的用于磁控溅射和电子束蒸发的nanoPVD和MiniLab系统发挥了关键作用。Moorfield专家的专业建议确保了我们得到为合适的设备,我们对设备的质量和快速、高效的技术支持留下了深刻的印象。很高兴能和Moorfield的团队一起工作。巴斯大学(nanoPVD-T15A)DR. PETRA CAMERON对Moorfield的评价:我们的研究重点是电化学材料、能源材料和钙钛矿光伏材料。我们之前一直在寻找一个可靠且易于使用的台式蒸发设备。现在,我们新的Moorfield nanoPVD-T15A热蒸发系统可以高质量的沉积金属电和钙钛矿光伏材料的接触层。让我们喜欢的另一方面是,该系统是模块化的,可以很容易地升低温有机物蒸发模块。我们的nanoPVD-T15A已经迅速成为一个关键设备,现在每天都在使用。DR MATTHEW COLE(副教授)对Moorfield的评价:Moorfield的服务速度快如闪电。他们的产品支持是的,屈一指的。丹麦技术大学(MiniLab090手套箱集成系统)为了满足Tim Booth在二维材料和异质结的合成和应用研究,系统在MiniLab090的基础上集成了手套箱,允许在惰性气体环境下进行完整的设备操作。系统配置包括软刻蚀、热蒸发和磁控溅射。Tim Booth教授对Moorfield的评价:在DTU,我们近从Moorfield采购了一套手套箱集成系统,系统配置包括软蚀刻系统、热蒸发和磁控溅射功能,用于我们研究二维材料和异质结的合成和应用。该系统允许我们在高精度控制的低氧和水气条件下执行2D材料器件的大部分微加工步骤。Moorfield团队在设计和安装过程中至关重要并且非常专业,如果有任何疑问,他们总是可以立即提供技术支持。他们在提供2D材料技术支持方面有多年的经验,所以我们知道我们有了得力的助手。系统的高质量和设计方案让我们印象深刻,我们期待着在未来的许多年里与设备和Moorfield团队一起工作。强烈推荐!”MiniLab090手套箱集成系统,图中红色部分为集成系统的控制屏幕和主机部分。曼彻斯特大学(手套箱集成退火和刻蚀系统)DR. ROMAN GORBACHEV对Moorfield的评价:我的团队近与Moorfield合作,为我们的应用方向定制了一个集成手套箱的热退火和软蚀刻组合系统。它安装于新的National Graphene Institute (NGI),现在被用于石墨烯和2D材料的研究。我们一直对Moorfield的专业技术和提高客户满意度的奉献印象深刻,这次也不例外!西班牙光子研究所(手套箱集成退火和刻蚀系统)位于西班牙巴塞罗那Castelldefels 的ICFO (光子科学研究所)是一个致力于光学领域科学和技术的研究中心。DR. STIJN GOOSSENS对Moorfield的评价:在ICFO,我们正在努力建立一个的新材料研究中心。近安装的Moorfield 手套箱集成热退火系统、电子束沉积系统,以及新的nanoETCH系统,起到了关键作用。我们对他们专业的销售建议、他们系统的质量和可靠性以及他们快速、有效的支持印象深刻。很高兴能和他们的团队一起工作!Evonetix公司(MiniLab 026 热蒸发系统)Evonetix公司致力于利用基因合成技术,促进合成生物学领域的快速发展。Evonetix的优势是基因合成的高保真性和并行性。DR. DAN BRATTON PH.D对Moorfield的评价:在Evonetix,我们正在开创一种可扩展和高保真基因合成的创新方法。我们想拥有一种将金属蒸发到各种基材上的设备,我们联系了Moorfield Nanotechnology公司,该公司根据我们的要求定制了一个Minilab 026蒸发系统。在整个过程中,Moorfield Nanotechnology团队非常友好且知识渊博,在安装前后都提供现场培训。在Evonetix, Minilab 026已经被证明是非常有用的设备。特别是,我们喜欢它的紧凑设计,它的易用性,以及它所带来的样品数量的增加。我们愿意向任何人推荐该设备和团队。Evonetix团队与新安装的MiniLab026热蒸发系统曼彻斯特城市大学(MiniLab 060)DR. JUSTYNA KULCZYK对Moorfield的评价:在MMU,我们近成立了曼彻斯特燃料电池创新中心,以开发利用可再生能源的创新技术方案。为此,我们采购了Moorfield MiniLab 060磁控溅射系统,该系统具有快速进样室、衬底偏压和等离子清洗、脉冲直流和射频电源以及共沉积功能。在系统设计过程中,Moorfield提供了非常宝贵的建议。我们对系统和软件的质量,以及他们团队的专业知识、沟通和技术支持都留下了深刻的印象。我们将推荐给任何现在或将来考虑使用PVD系统的人。曼彻斯特城市大学正在利用Moorfield Nanotechnology公司的MiniLab 060系统进行先进的燃料电池的研究
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  • Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的旗舰型系列产品。MiniLab系列产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。高精度薄膜制备与加工系统 - MiniLab自推出以来销售已突破200套。这些设备已经进入了欧洲各大学和科研单位实验室,诸如曼彻斯特大学、剑桥大学、帝国理工学院、诺森比亚大学、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学、哈德斯菲尔德大学、莱顿大学、亚森工业大学、西班牙光子科学研究所、英国物理实验室等著名单位都是Moorfield Nanotechnology的用户和长期合作者。诸多的用户与合作者让产品的性能和设计理念得到了高速发展,并迈入全球化的进程。如今Quantum Design中国子公司与Moorfield Nanotechnology正式合作,作为中国的总代理和战略合作伙伴,将为中国用户提供高性能的设备与优质的服务。除了MiniLab系列之外我们还提供多种高性能的台式设备和定制服务。设备型号MiniLab 026MiniLab 026系统是小型落地式真空镀膜设备,具有容易操作的“翻盖”式真空腔。适用于金属、电介质和有机物的蒸发和溅射沉积镀膜。MiniLab 026采用一体化设计方案,真空腔的一部分向下插入支撑框架内。腔室可以采用翻盖式或钟罩式。该系统可配备多种沉积技术,热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物),磁控溅射源(金属和无机)。沉积源通常安装在腔室底部,样品他安装在部,可容纳直径达6英寸的基片。可提供基片加热、旋转和Z-shift。MiniLab 026还与手套箱兼容,是MiniLab系列中可以轻松与用户现有手套箱集成的系统。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 060MiniLab 060系统是MiniLab系列中受欢迎的通用平台,具有前开门式的箱式腔室,适用于多源磁控溅射,也适用于热蒸发和电子束蒸发。MiniLab 060采用一体化设计方案,真空腔体安装在控制系统电子机柜上。系统可以配备各种沉积技术,包括热蒸发和低温蒸发源(生长金属和有机物),磁控溅射源(金属和无机),电子束源(除有机物外的大多数材料类别)。沉积源通常安装在腔室底部,但溅射源也可以采用部安装的方式。样品台可容纳的基片尺寸高达11英寸,可提供基片加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 060系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 080MiniLab 080采用高腔体设计,非常适合热蒸发、低温热蒸发和电子束蒸发,更长的工作距离以获得更好的薄膜均匀性。MiniLab 080真空腔体安装于控制系统电子机柜上。该系统非常适用于需要较长的工作距离以获得更好均匀性的蒸发技术。蒸发入射角接近90°,对于光刻器件获得好的lift off效果。除了热蒸发、有机物热蒸发和电子束蒸发外,该系统还可以用于磁控溅射(用做复合生长系统)。样品台通常在腔室的部,可以容纳基片尺寸高达11英寸直径。可提供基板加热、旋转、偏压和Z-shift。可配置行星式样品台、源挡板和基片挡板。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。必要时MiniLab 080系统可提供快速进样室。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 090MiniLab 090系统是为兼容手套箱开发的,适用于对大气敏感的薄膜生长。高腔室设计方案是高性能蒸发的理想选择,同时也可以采用磁控溅射方式。MiniLab 090系统是用于金属、电介质和有机物沉积的落地PVD系统。系统包含一个箱式不锈钢腔体,前、后双开门设计可与手套箱集成,允许通过手套箱中前门或者外部的后门对系统进行操作。真空腔体具有大的高宽比,非常适合通过蒸发技术进行长工作距离的高均匀性涂层,但系统也可以配备磁控溅射。真空度优于5×10-7mbar。针对客户的预算和需求可提供非常灵活的配置。系统配置可从手动操作的热蒸发系统到具有全自动过程控制的多种生长方案。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)MiniLab 125MiniLab 125系统将模块化设计概念带进了中试规模。大的腔室允许增加组件的尺寸,进而满足大面积涂层需求,结合快速进样室设计方案,可提高样品的吞吐量。同时,系统是完全可定制化的,以匹配特定的镀膜需求。MiniLab 125系统是落地式真空镀膜设备可用于金属、电介质和有机薄膜沉积。系统包含一个带有前门的箱式不锈钢腔体,用于取放样品。大的腔室体积可以用于中试规模的涂层或采用较为复杂的配置满足灵活多变的实验需求。系统可安装所有主要的沉积组件或定制的组件。系统的本底真空可达5×10-7mbar。可根据用户的预算和具体应用采用灵活的配置方案。薄膜生长方式可选:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发、磁控溅射(金属、氧化物、氮化物、缘体)
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薄膜制备相关的耗材

  • 迷你薄膜制样套装
    迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点:液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧,方便存储,携带薄膜重现性好,使用快捷 无需化学品,成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热,温度升高至样品所需的熔点,并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前,薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后,通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走,低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温,压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比,这个过程可缩短薄膜制备的周期,实际上,制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜,放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置,然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间,再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出,分开组件,小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard,然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数: 快速,可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25,50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率:35W 温度控制器:双数字显示,精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件,隔热板, 下压板组件,定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板,隔热板,下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子
  • 手持荧光光谱仪薄膜、样品杯膜TF-260
    土壤样品杯膜、XRF測試用的麥拉膜材質、美国Premier样品膜TF-260#(SKY-260) permier新产品SKY-260: 裁剪更方便 catalong NoFilm TypeSKY-115TF-115SKY-125TF-125SKY-130TF-130SKY-135TF-135SKY-160TF-160SKY-240TF-240SKY-260TF-260 迈拉膜、样品薄膜、麦拉膜、XRF样品膜、XRF测试薄膜、EDX样品薄膜、EDX薄膜、样品薄膜、ROHS测试膜、X荧光光谱仪用样品膜、光谱仪样品薄膜 本公司供应美国premier所有型号产品,欢迎采购, 卷:( 直径:3.0" (76mm);91.4m卷/盒) 序号CAT.No薄膜材料厚 度1TF-260#Polypropylene膜6.0μ(0.24mil) 品名:XRF样品膜Sample Film 型号: CAT. NO TF-260# 品牌:美国Premier Lab (原装进口) 货期:现货 起订量:1盒以上。 一、美国Premier XRF样品膜:美国Premier Lab Supply公司专注于X射线光谱分析XRF的样品制备领域,以高质量和全面的X射线的样品制备产品线享誉。美国Premier X-ray样品膜(X-ray Film)以其极低的(几乎不含)杂质和厚度均匀而严格生产,极好的柔韧性和抗化学腐蚀性,保证检测结果的可靠性和重现性,被广泛应用于XRF样品制备、检测过程,适用于各类X-ray光谱仪(XRF:WD-XRF、ED-XRF)。X-ray Film能用于固体、液体、粉末、颗粒、土壤等样品XRF检测,适用于RoHS&WEEE检测、油品成份分析、金属成份分析等。 二、Premier 样品膜特点: 有卷状和片状,多种规格、尺寸、数量可供选择; 柔韧性强、方便、耐用; 的X-ray射线穿透性,适合各类XRF光谱仪; 的抗化学腐蚀性能,不溶于有机溶剂,不污染待测样品; (几乎不含)痕量杂质,特别适合于轻质元素的限量检测。 三、适用于各种品牌X荧光光谱仪XRF:日本岛津shimadzu、牛津仪器Oxford、斯派克Spectro、布鲁克Bruker、日本精工SII、日本电子JEOL、日本理学Rigaku、日本堀场Horiba、热电Thermo、帕纳科Panalytical、尼通Niton、伊诺斯Innox-X、天瑞Skyray、Jordan Valley、ARL、Asoma、Kevex、Metorex、Siemens、Spectrace、Philips、Fisons。 四、XRF样品膜目录:美国Premier X-ray样品膜种类:(1)、Hostaphan膜;(2)、Kapton膜:聚酰亚胺膜,卡普顿膜;(3)、Mylar膜:聚酯薄膜,迈拉膜,麦拉膜;(4)、Polypropylene膜:聚丙烯膜。目录编号:CAT. NO 薄膜材料 厚度 长度 数量 描述 TF-260 Polypropylene膜 6.0μ(0.24mil) 76mm x91.4m 1卷/盒 Polypropylene Rolls连续卷轴
  • Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统
    Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定,根据热压制膜原理,所得到的样品是纯样品,谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求,提供三种等厚度薄膜制样工具,不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜,还能将粒状,块状或板材,如药包材料,包装材料,特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数: 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示,精度1度 安全切换装置:70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的,所以当P/N GS15800装载在压 片机上时, 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点:独立加热压盘,满足不同直径薄膜需要独立冷却盘,可缩短制膜周期重现性哈,制备过程简单 制膜过程无需化学品,成本低6种不同厚度的垫圈,适合各种高分子材料技术参数: 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示,精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633,请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式,圆形通光孔直径10mm,样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

薄膜制备相关的试剂

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