ALD原子层沉积系统资料
简介:美国SVT公司ALD原子层沉积系统 NorthStar ALD系统介绍: NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。 每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为广泛。 设备的快速舱口盖或装载室(可选件)使样品操作快捷方便。 NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来,还能连接多种测量仪器。 原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。 可以直接升级至超高真空 提供工艺演示以及工艺培训服务 为潜在客户提供免费样品测试。
化学机械抛光设备
简介:化学机械抛光设备 CP-4是世界最通用和最先进的台式化学机械抛光设备(CMP),可以很好的满足您的研发需求。完全软件控制,可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力,摩擦系数,温度,下压力,磨损,声发射等,可以模拟所有的参数,如速度,负载和流量,来模仿一个大的CMP系统。
多功能高真空镀膜系统
简介:可实现功能 超高真空磁控溅射 UHV-Sputtering 脉冲激光沉积系统 PLD 电子束镀膜系统 Ebeam 热蒸镀 Effusion 灵活,多功能,高品质给予一身的试验室级SMART超高真空镀膜系统,是SVTA公司2009年推出的最新产品。
PLD 资料 激光脉冲沉积系统
简介:简单介绍SVT Associates, Inc.公司的 PLD/L-MBE 脉冲激光沉积系统。 可用于生长ZnO,STO等薄膜,金属薄膜,磁性材料薄膜等。
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