化学机械抛光设备

2012-04-16 10:01  下载量：4

资料摘要

资料下载

化学机械抛光设备 CP-4是世界最通用和最先进的台式化学机械抛光设备（CMP），可以很好的满足您的研发需求。完全软件控制，可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力，摩擦系数，温度，下压力，磨损，声发射等，可以模拟所有的参数，如速度，负载和流量，来模仿一个大的CMP系统。

资料下载

文献贡献者

美国SVTA公司中国办事处
银牌会员 | 第18年
查看全部资料
相关资料 更多

相关产品

当前位置： 美国SVTA公司 资料 化学机械抛光设备

关注

拨打电话

留言咨询