资料摘要
资料下载简单介绍SVT Associates, Inc.公司的 PLD/L-MBE 脉冲激光沉积系统。 可用于生长ZnO，STO等薄膜，金属薄膜，磁性材料薄膜等。
文献贡献者
ALD原子层沉积系统资料
简介：美国SVT公司ALD原子层沉积系统 NorthStar ALD系统介绍： NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法，包括热淀积以及能量增强淀积。 每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔，使其应用范围极为广泛。 设备的快速舱口盖或装载室（可选件）使样品操作快捷方便。 NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来，还能连接多种测量仪器。 原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。 可以直接升级至超高真空 提供工艺演示以及工艺培训服务 为潜在客户提供免费样品测试。
化学机械抛光设备
简介：化学机械抛光设备 CP-4是世界最通用和最先进的台式化学机械抛光设备（CMP），可以很好的满足您的研发需求。完全软件控制，可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力，摩擦系数，温度，下压力，磨损，声发射等，可以模拟所有的参数，如速度，负载和流量，来模仿一个大的CMP系统。
超高真空磁控溅射系统
简介：本资料主要介绍Smart PVD系统，此系统可以集成多种沉积技术于一体。实现电子束蒸发、磁控溅射、热蒸发等同时使用一个腔室。方面科研工作人员的薄膜研究。
多功能高真空镀膜系统
简介：可实现功能 超高真空磁控溅射 UHV-Sputtering 脉冲激光沉积系统 PLD 电子束镀膜系统 Ebeam 热蒸镀 Effusion 灵活，多功能，高品质给予一身的试验室级ＳＭＡＲＴ超高真空镀膜系统，是ＳＶＴＡ公司２００９年推出的最新产品。
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