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1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.设备用途：
用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。例如可用于制备各种功能性薄膜，如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；适用于微电子域；在光学域，可用于制备增透膜、低辐射玻璃和透明导电玻璃等；在机械加工行业中，可沉积表面功能膜、超硬膜、自润滑薄膜等，以提高表面硬度、复合韧性、耐磨损性和抗高温化学稳定性能；还可应用于高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜等的研究。
3.真空室：
真空室结构:长方形侧开门
真空室结构:长方形侧开门
真空室尺寸:1100X700X350mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉积源:磁控靶尺寸：450X80mm、向上溅射，每个真空室配2个靶位
样品尺寸，温度:300X400mm；高温度300度
占地面积（长x宽x高）:约6米×3米×2米（设计待定）
电控描述:全自动工艺:设计待定
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
磁控溅射薄膜沉积系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于磁控溅射薄膜沉积系统报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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