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1.产品概述：
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等，工艺性能稳定、模块化结构，采用行业的软件控制系统。
2.设备用途：
可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
3.用户评价：
TRP-450高真空镀膜机其设备质量过关，功能齐全，性能稳定，自动化程度高，抽气速平稳，电源稳定可靠，气路流畅密闭，镀膜质量平整光滑，均匀致密，结合力强，且系统操控智能，便捷，可满足科研实验与生产制造的需求，是一款优秀的磁控溅射镀膜系统。——北京石墨烯技术研究院有限公司 李老师
4.真空室：
真空室结构:圆筒形开门
真空室尺寸:φ450x400mm
限真空度:≤6.6E-6Pa
沉积源:永磁靶3套，φ2英寸，可以向上溅射或向下溅射。
样品尺寸，温度:φ4英寸，1片，高800℃
占地面积（长x宽x高）:约1米×1.8米×2米电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性：≤±3%
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
高真空磁控溅射薄膜沉积系统信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于高真空磁控溅射薄膜沉积系统报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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