【讨论】（参与有奖）大家讨论一下全反射X射线荧光光谱仪器的特点及独特设计

全反射X射线荧光光谱仪TXRF，从本质上说也是EDXRF的一种，所以EDXRF能测量的TXRF都能测。最大的不同就是TXRF采用了完全不同的几何机械结构，使入射到样品上的X射线发生全反射，目的是降低散射，提高灵敏度，使其具有EDXRF不具有的超低检出限。这个跟WDXRF没关系。

原来它也是能量色散里的一种，它是通过什么来实现全反射的？

降低X射线的入射角，一般入射角都小于0.1°，这个一般很难实现的。

这个一般很难实现的，那全反射仪器是怎么实现的呢

全反射能真正做到全部反射吗，这种仪器是不是对样品制取要求跟一般的制样要求严格？

这个一般讲入射的X射线先整形成极细的“片光”，类似于一张纸一样的，然后以低于0.1°的角度入射到样品上。这个要求要靠精密的机械加工和精密的微调节机构来实现，所以这样的仪器一般比较贵。

样品制样的要求比较严格，最好是溶液或者悬浊液，滴在样品载片上，然后烘干，目的是在载片上形成均匀的一薄层待测的样品。如果样品厚度过大（大于几十微米），就失去了全反射工作的条件了。

请问，那是不是可以说全反射测试的条件就必须要对样品进行严格的钱处理并且厚度有严格的要求呢？

原文由 garfieldcat(garfieldcat) 发表:原文由 bennaiyou(bennaiyou) 发表:全反射能真正做到全部反射吗，这种仪器是不是对样品制取要求跟一般的制样要求严格？

样品制样的要求比较严格，最好是溶液或者悬浊液，滴在样品载片上，然后烘干，目的是在载片上形成均匀的一薄层待测的样品。如果样品厚度过大（大于几十微米），就失去了全反射工作的条件了。

请问，那是不是可以说全反射测试的条件就必须要对样品进行严格的钱处理并且厚度有严格的要求呢？


全反射制样一般制样简单，没有严格意义上的要求，主要满足平面和小角度，尽量满足减少散射等。