请问场发射sem有神么特别好处？

亮度高,分辨率高

电子枪的种类不同，电子束的会聚直径、能量的发散度不同，从而很大程度上决定了照射到样品上电子的性质。
电子枪：主要是热电子发射型和场发射型。

热电子发射主要来源于阴极灯丝发出的电子经加速管加速得到。
如果在金属表面加一个强电场，金属表面势垒降低，由于隧道效应，金属内部的电子穿过势垒从金属表面发射出来，这种现象称场发射。

场发射电子枪较之热电子发射型具有亮度高约100倍，光源尺寸也非常小，其电子数的相干性也很好，分辨率通常达到~ 1 nm量级。

--《材料评价的分析电子显微方法》

场发射也分热场和冷场，共性是分辨率高。
热场的束流大些，适合进行分析，但维护成本相对较高，维护要求高。
冷场做表面形貌观测是适合的，相对而言维护成本低些，维护要求不算高。

冷场发射电子枪
优点：单色性好，分辨率高
缺点：电子枪束流不稳定，束流小，不适合做能谱分析，每天要做一次Flash
热场发射电子枪
优点：电子束稳定，束流大
缺点：与冷场相比除了单色性和分辨率略差点外，其它找不出缺点。

场发射电镜的主要优势就是分辨率高，尤其是低加速电压下的分辨率更是远远超过钨灯丝电镜。因此更适合于进行真实的表面分析，特别是薄膜样品。

冷、热场发射扫描电镜的差别：

1、电子源
下表是一个资料上关于各种电子源性能的对比，不一定完全准确，但很有参考价值。

从上表可以看出，冷热场发射源各有优势。热场在总发射电流（Total emission current）、最大探针电流（Maximum probe current）、电子束噪声（Beam noise）、发射电流漂移（Emission current drift）、工作真空（Operating vacuum）、阴极还原（Cathode regeneration）、对外部影响的敏感性（Sensitivity to external influence）等方面都具有一等的优势。这些参数直接影响电镜的性能。
在阴极半径（Cathode radius）、有效电子源半径（Effective source radius）、发射电流密度（Emission current density）、标准亮度（Normalised brightness）等方面，冷场发射略胜一筹。这几个参数总起来说就是冷场发射阴极的发射面积较小、能量集中，便于将电子束聚焦于一个很小的点，以提高分辨率。但是在现代的电镜技术条件下，热场发射电镜通过采取各种有效措施，也能够将电子束汇聚于一个理想的点，达到冷场发射电镜的分辨率水平。
热场发射电镜主要的一个缺点是灯丝（阴极）寿命较短，给定寿命2000小时，实际可用3年左右。而冷场发射阴极寿命相对较长，且更换费用较低。
2、仪器性能
2.1 分辨率
一般的通用场发射扫描电镜较高档次的分辨率均可达到1nm@15kV，在这方面冷场和热场没有明显差别。个别型号的冷场发射扫描电镜分辨率可达到0.6nm，但是这种电镜的使用是非常局限的，样品只能有几毫米大小，在各种分析方面都受到很大限制，且价值昂贵。
2.2 稳定性
冷场发射电镜灯丝要吸附电子枪内的残留气体，随着时间的增长，发射电流越来越不稳定，需要定时（大约8小时一次）进行加热还原（flash，约需半小时），给使用维护带来不便。而热场发射电镜无此烦恼。
热场发射电镜的发射电流稳定度较好，漂移小于0.5%/h（有的电镜指标可达到0.2%/h），而冷场发射则比这要大一个数量级。
2.3 最大探针电流
热场发射电镜探针电流一般可达10nA，而冷场电镜却要低约1个数量级。大探针电流仪器可容易进行 BSE、EDS、WDS、EBSD、CL 等分析。
2.4 工作真空度
热场发射电镜电子枪所需的工作真空度较低（≤1x10-8hPa），比较容易达到，一般只用一级离子泵就可以了。而冷场电镜的工作真空度要高1～2个数量级，一般要用两级离子泵，对真空密封等要求苛刻。冷场发射电镜样品室的真空度要求也较高，这对于不太清洁、含水、含油、有气体析出的样品，抽真空就很困难。
有多种型号的热场发射电镜具有低真空方式，而冷场电镜难以做到。

各位说的都没错，个人觉得要是分辨率要求一定要那么高的话，用热场的要方便些，起码换灯丝少花点时间，也不用老去Flash.

分辨率高

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