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【求助】我的ICP做硅的空白很高

ICP光谱

  • 用了HF,空白相当高,用HF洗很久都洗不掉,各位大虾赐教一下,到底是哪个部位造成了硅的沉积,我用的是耐HF的雾化室
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  • hunk

    第1楼2007/04/27

    前处理严禁接触玻璃器皿---因为其中含有大量si,而处理时往往要用到HF--

    shey_211 发表:用了HF,空白相当高,用HF洗很久都洗不掉,各位大虾赐教一下,到底是哪个部位造成了硅的沉积,我用的是耐HF的雾化室

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  • Star

    第2楼2007/04/28

    整个前处理过程完全没有碰到玻璃器皿,而且就用HF洗雾化器也洗不掉里面的硅,直接做空白硅都很高

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  • wanghj520

    第3楼2007/04/28

    这个问题还确实不多见哟

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  • sundyvan

    第4楼2007/05/14

    你做一下制备空白,看一下是不是污染。然后定性扫一下样品液,看看是不是干扰。最后,选择三条谱线再试一下。
    再不行,我也没办法了。

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  • bingerfchaaa

    第5楼2007/05/14

    多测几次
    检查是否稳定,是否被污染

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  • hjh821225

    第6楼2007/05/14

    你 空白 是什么 HF+H2O?

    你 雾化器是玻璃的 还用HF ? 有钱啊
    试试碱融~~~~~~~

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  • Linda207

    第7楼2007/05/17

    不孤独的星:你好啊,你是做什么样的硅产品?可以的话留个联系方式,以后我也可能要做这方面的工作,交个工作伙伴吧?我的邮箱:chenjf1300207@126.com

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  • sundyvan

    第8楼2007/05/18

    他都说了,耐氢氟酸雾化器啦。。。。。。

    hjh821225 发表:你 空白 是什么 HF+H2O?

    你 雾化器是玻璃的 还用HF ? 有钱啊
    试试碱融~~~~~~~

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  • kittlewjj

    第9楼2007/05/18

    HF里面可能有硅.多做几个空白

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  • jamrxjw1

    第10楼2007/08/23

    我想你还是注意一下你样品溶解用的是什么器具,应该用聚四氟乙烯的烧杯,低温溶解,如果我没记错的话,测硅是不能用HF溶解的,会跑掉的.

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