【讨论】GC/MS离子源清洗用的溶剂调查

先抛砖引玉吧。我们是先用HPLC级的乙醇沾氧化铝粉末洗磨，然后再用HPLC级的乙醇超声清洗的。仪器为Agilent 5973。

我一般采用色谱纯的：甲醇、正己烷、丙酮分别清洗！
改变极性来清洗离子源上面的污染物

水加氧化铝擦洗（原来说用甘油，防止干，后来发现没必要）、水冲、去离子水超声、甲醇超声、丙酮超声，利用GC的60度烘干

除灯丝以及螺丝外，的金属表面，用AL2O3 的无水乙醇糊状物打磨
再水清洗，hplc 甲醇清洗，二氯甲烷清洗，最后丙酮清洗

所有的离子源部件 放入洁净的烧杯，无水乙醇 超声清洗4次 10分钟

直接使用丙酮超聲清洗後，用400度烘干1小時後使用，丙酮是分析純的。

先用分析纯乙醇加氧化铝打磨,超纯水冲洗,超声,置洁净烧杯中,分析纯氯仿,丙酮,甲醇各2次顺序超声,柱箱内60度烘30分钟

我们用的是清洗膏(电镜陪的)清洗,再用丙酮超声!

氧化铝加甲醇，冲干净后，用二氯甲烷，丙酮，甲醇分别超声后烘干，HPLC级的试剂，可参照A的资料。

本人一直使用无水乙醇和丙酮等有机溶剂．