资料摘要
资料下载1. “GaN-based Devices for Reliable Operation at Very High Temperatures,” Amir M. Dabiran, Andrei Osinsky, Andrew M. Wowchak, Peter P. Chow, Luc Stafford, Rohit Khanna, I.I. Kravchenko, F. Ren, S. J. Pearton, Robert C. Fitch, James Gillespie, and Gregg Jessen, October 29-November 3, Cancun, Mexico, ECS Meeting (2006). 2. “MBE growth and characterization of low-defect buffer layers for high-performance III-N devices,” Amir M. Dabiran, Andrew Wowchak, Peter P. Chow, A.Y. Polyakov , N.B. Smirnov, A.V. Govorkov, A.V. Markov, V. Kumar, and I. Adesida 3. “Optimization of p-type AlGaN/GaN and GaN/InGaN superlattice design for enhanced vertical transport”, M.Z. Kauser, A. Osinsky, J.W. Dong, B. Hertog, A. Dabiran, and P.P. Chow, Res. Soc. Symp. Proc. 831, E3.39 (2005).
ALD原子层沉积系统资料
简介:美国SVT公司ALD原子层沉积系统 NorthStar ALD系统介绍: NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。 每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为广泛。 设备的快速舱口盖或装载室(可选件)使样品操作快捷方便。 NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来,还能连接多种测量仪器。 原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。 可以直接升级至超高真空 提供工艺演示以及工艺培训服务 为潜在客户提供免费样品测试。
化学机械抛光设备
简介:化学机械抛光设备 CP-4是世界最通用和最先进的台式化学机械抛光设备(CMP),可以很好的满足您的研发需求。完全软件控制,可以对直径4英寸的晶圆和磁盘进行抛光。 CETR-CP-4可检测原位摩擦力,摩擦系数,温度,下压力,磨损,声发射等,可以模拟所有的参数,如速度,负载和流量,来模仿一个大的CMP系统。
超高真空磁控溅射系统
简介:本资料主要介绍Smart PVD系统,此系统可以集成多种沉积技术于一体。实现电子束蒸发、磁控溅射、热蒸发等同时使用一个腔室。方面科研工作人员的薄膜研究。
多功能高真空镀膜系统
简介:可实现功能 超高真空磁控溅射 UHV-Sputtering 脉冲激光沉积系统 PLD 电子束镀膜系统 Ebeam 热蒸镀 Effusion 灵活,多功能,高品质给予一身的试验室级SMART超高真空镀膜系统,是SVTA公司2009年推出的最新产品。
PLD 资料 激光脉冲沉积系统
简介:简单介绍SVT Associates, Inc.公司的 PLD/L-MBE 脉冲激光沉积系统。 可用于生长ZnO,STO等薄膜,金属薄膜,磁性材料薄膜等。
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