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FLOURIS 201系列 8英寸立式炉
1、高精度温度场控制技术，可实现 1200℃ 内氧化退火工艺
Higher precision temperature field control technology, capable of 1200℃ oxidation Anneal process
2、先进的颗粒控制技术
Advanced particle control technology
3、优良的膜厚均匀性控制技术
Excellent film thickness uniformity control technology
4、图形化操作界面和群组管理系统
Graphic user interface and Group controller
技术参数
1、晶圆尺寸 8 英寸
2、适用材料 硅、碳化硅
3、适用工艺 高温氧化、退火、常压合金、Polyimide 固化
4、适用领域 科研、化合物半导体、集成电路
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
8英寸立式炉信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于8英寸立式炉报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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