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1 产品概述:
新型离子枪结合了空心阳极离子枪和磁控管离子枪的优势，通过独特的结构设计和技术集成，实现了对材料表面高效、精确的处理能力。该设备集成了离子源、加速电极、聚焦透镜和控制电源等关键部件，能够产生并发射高能量、高密度的离子束，满足各种复杂工艺需求。
2 设备用途：
薄膜沉积：新型离子枪可用于在基材上沉积各种金属、非金属及合金薄膜，如钨超细结构薄膜。这些薄膜在电子器件、光学元件、太阳能电池等领域具有广泛应用。
表面清洁与刻蚀：通过离子束的轰击作用，可以去除材料表面的污染物、氧化物等杂质，实现表面清洁。同时，离子束还能对表面进行精细刻蚀，形成所需的微纳结构。
深度分析：在样品表面分析中，新型离子枪可用于表面刻蚀和深度剖析，揭示材料内部的成分和结构信息。
涂层与改性：利用离子束的沉积和改性作用，可以在材料表面形成具有特定功能的涂层，如防腐、耐磨、导电等涂层。
3 设备特点
高效性：新型离子枪结合了空心阳极离子枪和磁控管离子枪的优点，具有更高的离子束能量密度和更快的物料反应速度，从而提高了处理效率。
精确性：通过精确控制离子束的能量、束斑大小和扫描路径，可以实现对材料表面的精细处理，满足高精度加工需求。
多功能性：该设备不仅可用于薄膜沉积、表面清洁与刻蚀等传统应用，还可拓展至表面改性、深度分析等新兴领域。
4 技术参数和特点：
可以简单地进行粒径1nm以下的钨超微粒子的包覆。
通过使用Ar离子的离子束溅射法沉积的钨膜的粒径为0.2nm～0.5nm。即使在700,000倍SEM观察中也没有观察到颗粒感，非常适合高倍率观察。样品表面温度在50℃以下，因此可以进行热损伤小的涂层。可以在短时间内涂层。（真空度达到1Pa后所需时间3～5分钟）
可以绕入，狭窄的间隙也可以进行涂层和附着力优良的涂层。可以得到不易附着污染的涂膜。目标，标准准备了钨，根据您的要求可以换成各种目标材料。
可选：也可以蚀刻。
离子枪外加电压 | 200 V |
目标施加电压 | 1.4 kV |
工作电流 | 20mA |
工作真空度 | 1 Pa |
目标尺寸 | 50 mm |
试样尺寸 | Φ32 ｘ t15 mm 以内 |
60天
1年
安装调试现场免费培训
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