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一、产品概述：
Nikon S207D 扫描式光刻机是一款专为半导体制造设计的高性能设备，支持 200mm 晶圆的生产。该机型采用先进的扫描光刻技术，能够实现高分辨率和高精度的图案转移，适用于集成电路、微处理器和存储器等电子元件的制造。凭借其快速的曝光速度和稳定的性能，S207D 非常适合大批量生产，同时用户友好的操作界面和自动化功能使得操作简单高效。这些特点使得 Nikon S207D 成为现代半导体制造过程中的重要工具，满足行业对高质量和高效率的需求。
二、设备用途/原理：
该设备通过高强度光源将掩模上的图案投影到涂有光刻胶的晶圆表面。工作过程中，光源发出特定波长的光线，通过高分辨率光学系统，精准地扫描掩模并将图案投影到晶圆上。曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，接着进行显影，去除未曝光或已曝光的光刻胶，形成所需的图案。随后，利用刻蚀工艺将图案转移到晶圆材料上，最后去除残留的光刻胶。通过这一系列步骤，Nikon S207D 能够高效地实现复杂图形的精确转移，满足现代半导体制造的高标准需求。
三、主要技术指标：
分辨率 | 0.11µm |
N.A. | 0.82 |
曝光光源 | 248nm |
倍率 | 4:1 |
大曝光现场 | 26mm*33mm |
对准精度 | 20nm |
四、设备特点
Nikon S207D扫描式光刻机
光源波长248nm
分辨率优于0.11µm
主要用于8寸及12寸生产线
广泛应用于化合物半导体、MEMS、LED等域
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
扫描式光刻机信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于扫描式光刻机报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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