帮帮忙忙啦！

不妨到超星数字图书馆去找找。

1、也有文献报道，少量硅可以使用王水溶解。或使用硼酸驱赶F离子。赶掉F离子后，不会对仪器有什么影响的。
2、P的213的确和Cu有较大的干扰，你可以采取去掉一个背景点试试。178应该也是可以测定的。
3、书籍，我已经在论坛上推荐过了，你可以找找我的帖子。
4、做合金试样，标准是个问题。否则需要打底。

我顶，我顶，我顶，
F一定要去干净，不然即使很少两的也会对石英进样系统有破坏。

谢谢各位的帮助！
1、 si在0.6%以下用王水在微波消解里可以溶解，但是Si高于0.6%就难了，那么使用HF的话，在样品溶解完后，多加一些硼酸是不是好一些呢，对分析不会有什么大的影响吧！
2、p的213那条线，是不是把靠近Cu谱线的那个背景点去掉，或者和中间那个背景点合并呢！你说的是这个意思吗？小弟水平洼，所以问的很业余！

不能加太多的硼酸

第一个问题，有人答过了
回答你第二个问题：中间还会有背景点吗？如果背景点出在中间，那就不是背景了，应该就是积分区间了。
我的意思是只用一个背景点。

按上等兵的说的作作试试

回shangdb：
你说的没有错，一共有三个点，那应该是积分区间（呵呵小弟水平太洼， ），你的意思就是只留下中间那个，并且越小越好是吗？谢谢

积分区间不是越小越好。还是宽度＝3
背景点要保留一个，或者左，或者右。