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1. 产品概述
离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。
2. 设备特点
磁阻式随机存取存储器（MRAM）；
介电薄膜；
III-V族光电子材料刻蚀；
自旋电子学；
金属电极和轨道；
超导体；
激光端面镀膜；
高反射（HR）膜；
防反射（AR）膜；
环形激光陀螺反射镜；
X射线光学系统；
红外（IR）传感器；
II-VI族材料；
通信滤波器。
售后服务
60天
1年
安装调试现场免费培训
离子束刻蚀系统IBE信息由深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供，如您想了解更多关于离子束刻蚀系统IBE报价、型号、参数等信息，深圳市矢量科学仪器有限公司客服电话：400-860-5168转5919，欢迎来电或留言咨询。
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