Sitara TA230A 12英寸单片快速热退火系统
1、适用于 260-1200℃快速热处理工艺
Advanced 260-1200℃ rapid thermal process
2、高精度温度控制,提供优异工艺
High precision temperature control system ensure excellent process performance
3、低成本,高产能
Lower CoO/CoC,higher throughput
技术参数 Technical Parameters
1、晶圆尺寸 12 英寸
Wafer size 12"
2、适用工艺 快速热退火、快速热氧化、金属硅化
Applicable process RTA, RTO, Silicide
4、适用领域 科研、集成电路
Applied field R&D, IC
60天
1年
安装调试现场免费培训
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